膜清洗劑

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反滲透膜表面在運行中由于給水帶入的物質的污染而產生污垢，例如金屬氧化物的水合物、鈣的沉淀物、有機物和微生物。這些物質在適當的操作條件下可借助于化學藥劑的清洗而有效地除去，稱為膜的清洗。 （1）污垢產生的因素 a.預處理方式不當；b.預處理運行不正常；c.給水系統（管道、泵、閥門等）材料選擇不當；d.加化學藥品的系統（計量泵等）不正常；e.停機后沖洗不當；f.操作控制（如回收率、產品水水通量、給水流速等）不當；g.長期運行中積累的鈣、硅等沉淀物；h.反滲透給水的水源改變；i.給水水源的生物污染。 （2）反滲透膜需要進行清洗的標志 膜表面污垢導致產品水流量減小，膜的脫鹽率下降，給水/濃水的壓力差增加。經過標準化的運行參數：（產品的水流量下降10%，脫鹽率下降5%，給水、濃水壓差增加15%需進行清洗）其基準是參比新膜最初始運行24~48h內的運行性能。如預處理設計合理、運行正常，則一般半年至一年清洗一次，如小于3個月就需清洗，則應研究改進預處理的方式。 （3）清洗工藝要點 必須按照選擇的配方和規定的溫度進行。 清洗流速：對于8in膜元件，流速最大采用9.1立方米每小時；4in膜元件，采用1.8~2.3立方米每小時；2.5in膜元件，采用0.7~1.1立方米每小時。壓力容器的壓力必須是達到上述流量的最小壓力，但通過任何壓力容器的壓降不得超過60psi。 膜元件的清洗可以用陰離子表面活性劑，避免使用陽離子型表面活性劑，因其可能發生不可逆轉的污堵。 允許并聯清洗，亦可分段清洗，分段清洗的目的是： a.不致使第一段流速過低，也不致使最后一段流速太高。b.不致使第一段的沉積物帶至下一段。 配制溶液使用的水源必須為不含痕量的氯或其他氧化劑。