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該系列設備主要是（集）直流磁控濺射，中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術融合一體，結合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細化膜層各項性能提高，能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經公司技術人員多年專注研發(fā)，通過特有的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動控制系統(tǒng)，使鍍膜層附著有力致密、從復度一致性好等特點，解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不一致等問題。廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具、及要求耐磨起硬的刀具、模具等。鍍制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC及各類金鋼石膜（DLC）。
1.磁控濺射原理是基于陰極輝光放電理論，把陰極表面磁聲擴展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩又增強了表面光澤度。
2.電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場結構鍍膜時可在30A電流下工作，鍍膜層和基底界面產生原子擴散，又具有離子束輔助沉積的特點。
本公司可根據用戶要求設計各種規(guī)格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統(tǒng)也可根據用戶要求進行設計配置。
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