| 服務項目 | 瀏覽量11 | 發布時間2011-07-27 |
| 品牌未填 | 所在地廣東 東莞 | 起訂≥1 套 |
| 供貨總量未填 | 發貨0天內發貨 | 有效期至2025-03-09已下架 |
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此設備利用磁控濺射陰極輝光放電將原子（靶材）離化沉積在基材上（物理氣相沉積PVD）和真空中利用電阻加熱法將金屬絲熔融或金屬分子汽化，對基材、手機殼等塑料表面進行金屬化、利用特定薄膜涂層實現產品不導電和電磁屏蔽的作用，以滿足現行手機的高端電子產品制造行業標準；
設備集中了等離子體處理，高端陰極磁控濺射、電阻蒸發鍍膜裝置，大裝載量轉架和自動化控制技術，工作可靠、重復性一致性良好、沉積速率快，附著力好，膜層品質細膩等，鍍制的薄膜致密硬度高，摩擦系數低，可保持原有工件表面光潔度，具有韌性好，不易破裂脫落。設備實現鍍膜工藝全自動化控制。在基材表面利用真空鍍膜方法進涂層，具有生產成本低、產品合格率高、綠色環保等特點，主要適用于電腦、手機、高端工業（家用）電子電器、航空等領域，可鍍制復合金屬膜、合金膜、透明（半透明）膜、不導電膜、電磁屏蔽膜及特殊膜層等。
本公司可根據用戶要求設計各種規格型號的真空鍍膜機。真空機組及電控系統也可根據用戶要求進行設計配置。
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